コバルト60ガンマ線照射施設

総保有線源の強度は約 3.7TBq （約10 kCi）と極めて高く、下表に示すとおり能力の異なる 4 つの照射室（ホットケーブ）および１つの照射プールから構成されています。
これらは次のような特徴を有しています。

1. （１）研究開発を目的とする様々な照射条件に適合するように設計されている。
2. （２）照射室を選択して、低線量率から高線量率、低線量から高線量での照射試験を行うことができる。
3. （３）ケーブル、配管などを照射室外に引き出し、照射中に各種の測定・制御を行う必要がある試験が可能である。

照射施設の名称	施設の大きさ（m）	ガンマ線源の数量（TBq）	利用線量率（Gy/h）
第1照射室	2 Ｘ 3 Ｘ 3	500	1〜2.000
第2照射室	4 Ｘ 4 Ｘ 3.1	350	10〜5.000
第3照射室	4.5 Ｘ 4.5 Ｘ 3.4	2.5	0.1〜10
第4照射室	8 Ｘ 11 Ｘ 4.5	3.000	100〜5.000
照射プール	3 Ｘ 5 Ｘ 5	3.000	10.000〜50.000

利用者はこれまで、大学・研究機関、電線、電気、化学薬品、医療器具、プラント、繊維、食品、宝飾、和楽器などの各メーカー、検査会社まで多岐にわたっています。

高エネルギー電子線照射施設（4〜16 MeV）

電子線型加速器（ライナック）を利用して、4〜16 MeV の高エネルギーの電子線を照射することができます。10 MeV のエネルギーで、平均ビーム電流 50 μ A が標準的な条件です。
ビーム径は約 10mm φですが、電子線スキャナー（振れ幅 30cm）とコンベアー装置を装備しており、比較的大きい試料に均一に照射することができます。これにより1分間で10kGy の照射が行えます。電子線の他に、高エネルギー X 線、中性子線照射も可能です。

低エネルギー電子線照射施設（60〜600 keV)

コッククロフト・ウォルトン型電子線加速器を用いた照射施設で、最大ビーム電流 1 mAでの空気中照射が可能です。低エネルギーであるため、フィルム状の試料や物質の表面処理に適し、大面積の試料に対して均一な照射を行うことができます。
高分子の架橋反応を利用した改質の研究や商品開発、半導体や人工衛星に使用する新素材の耐放射線性の研究、食品の表面殺菌の研究、ガラスの表面着色の研究等が行われています。

非密封放射性同位元素取扱施設

本施設では、³Hや³²Pを始め18核種の非密封放射性同位元素を利用できます。
液体シンチレーションカウンターやガンマカウンターなど各種放射線計測機器が揃っています。また施設内には遺伝子組換え生物を扱えるP1実験室や、暗室が あり、実験室の多くが安全フードを備えています。当施設では生物学・化学・物理学系の様々な研究を実施することができます。

その他の主要設備・機器測定装置等

名称	利用例等
X線照射装置	最大 350 keV ，直径 40 cmφの範囲で照射が可能。実験動物の免疫抑制など、主に基礎医学、生物分野の研究
放射線透過装置	非破壊検査、放射線の透過率の測定
ガンマ線分析装置	ガンマ線スペクトルの計測による、試料中の放射能の分析中性子放射化分析による半導体素子中の不純物、文化財試料の元素分析
X線分析装置	マグネシウム以上の原子番号の物質に対する、結晶構造の解析や元素分析
液体シンチレーションカウンター	トリチウム、炭素 14 、リン 32 などの放射性同位元素の定量によるトレーサー実験、文化財の年代測定
低バックグランド放射能測定	極微量なベータ線およびアルファ線放出核種測定による環境中の放射能測定

利用について

学内外の研究機関や民間の方が本施設を利用される場合は、下記にお問い合わせ下さい。