高度粒子線科学技術特論レポート(1)

問題

• 問題1
  (a)　電子飽和電流を表す式を書き、式中の文字が表す物理量を簡潔に延べよ。
  (b)　イオン飽和電流を表す式を書き、式中の文字が表す物理量を簡潔に延べよ。 ただし、(a)で説明済みのものは不要。
  (c)　(a)と(b)の式を使って、浮遊電位を計算する式を導け。 また、二次電子電流が存在するとき、浮遊電位の大きさは どのようになるかを論じよ。

• 問題2
  授業中に説明したプラズマ生成法のいずれか一つを取り上げ、 その原理特徴を要約し、 外の方法と比べての生成されたプラズマの特徴、及び その生成法が利用されている分野について紹介せよ。

• 問題3
  プラズマおよび放射線を用いた滅菌処置について、その違いを論じよ。 また、プラズマが特に有効であると思われる対象、場面を指摘せよ。

注意

友人にヒントなどを教えてもらうことは構わないが、必ず自分で考えた 結果を提出すること。極端に類似の(丸写しの)レポートがあれば、全て0点と 評価するので注意すること。

レポート受付は原則木曜2コマの授業終了時とする。 最終提出期限は6/6とする。それ以前の提出も歓迎する。